半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線(xiàn)寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質(zhì)。

 

    1、電子、電力、電鍍、照明電器、實(shí)驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。

    2、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水。

    3、單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線(xiàn)柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線(xiàn)路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。

 

    1、系統模塊化設計，共分四部分：預處理系統、反滲透系統、EDI系統、終端供水系統。

    2、預處理系統主要用來(lái)去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機物，保證產(chǎn)水符合反滲透系統的進(jìn)水水質(zhì)要求。

    3、反滲透系統主要用來(lái)去除原水中溶解性鹽類(lèi)物質(zhì)、細菌、熱源等，保證產(chǎn)水符合EDI系統進(jìn)水水質(zhì)要求。

    4、EDI系統主要用來(lái)對反滲透產(chǎn)水進(jìn)行進(jìn)一步脫除溶解性的小分子鹽類(lèi)物質(zhì)，產(chǎn)水達到電阻率達到15MΩ.cm以上。

    5、終端供水系統主要是用來(lái)將合格水輸送至用水點(diǎn)，輸送過(guò)程中對EDI產(chǎn)生進(jìn)行最后的離子交換脫鹽，使得產(chǎn)水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。

    6、整個(gè)系統進(jìn)行集中控制。